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澄清刻机

  • 中科院研究员澄清5nm光刻机技术为误读,国产水平在180nm

    中科院研究员澄清5nm光刻机技术为误读,国产水平在180nm

    文| AI财政和经济社 唐煜 编纂| 赵艳秋 不日,相关“新式5nm超高精度激光光刻加工本领”舆论的通信作家、中国科学院接洽员、硕士生导师刘前在接收媒介采访时廓清,这一本领与高端光刻机沿用的极紫外光刻本领(EUV)是两码事中国科学院造谣光刻机 。 本年7月,中国科学院网站登载了一则国产5nm光刻本领获冲破的消息,中国科学院苏州纳米本领与纳米仿古接洽所张子旸接洽员,与国度纳米科学重心刘前接洽员协作,在《纳米境外报纸》上公布了一篇接洽舆论,述了该共青团和少先队开拓的新式5nm超高精度激光光刻加工本领中国科学院造谣光...

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